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液晶湿制程设备
价格:电议
设备名称 PR前清洗设备 用于液晶工艺中对基板蚀刻
全自动硅片清洗设备
价格:电议
德国10mm(5MM)NPP板热弯/焊接组合加工 清洗对象
平板式硅片清洗机
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设备简介 清洗对象是2~8英寸的硅研磨片
硅片清洗设备
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用途 广泛用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学工
硅片清洗系列
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一 主要技术特点 1 可靠的控制系统2 触摸屏显示 3 可设
硅片边缘腐蚀机
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华林科纳—CSE半导体器件设备 硅片边缘腐蚀机适用于2″~8
单晶圆清洗设备
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华林科纳—CSE 半导体器件设备 单晶圆清洗设备适用于薄晶圆
浸泡式清洗机
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华林科纳—CSE浸泡式清洗机 用于石英舟/石英管/石英钟罩/
半自动硅片腐蚀机
价格:电议
德国10mm(5MM)NPP板热弯/焊接组合加工 清洗对象
单槽石英管清洗机石英钟罩清洗设备
价格:电议
适用于1″~8″石英管酸泡本设备为柜体式 整体采用德国NPP
液晶基板蚀刻 PR前清洗设备
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1 全程工艺采用PLC控制 触摸屏操作
半导体硅片去膜/去胶/去蜡清洗机
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本设备可用于半导体工艺中对2″~8″硅片进行去膜处理 该产品
LCD清洗腐蚀设备
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用于LCD清洗腐蚀本机设有内外两个清洗槽 内槽为酸洗槽 外
液晶玻璃Pi COAT前清洗设备
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华林科纳—CSE 液晶玻璃Pi COAT前清洗设备通过清洗
液晶设备
价格:电议
1 可靠的控制系统及可视入机界面2 可根据用户要求提供非标工
手动硅料腐蚀机
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华林科纳 CSE 1)主要用于太阳能片生产中硅料的清洗 腐蚀
双槽玻璃蚀刻机
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华林科纳 CSE⑴超声清洗 加热清洗为单槽定时控制 到时给予
太阳能光伏玻璃清洗设备
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华林科纳 CSE一 采用德国10mm(5MM)NPP板热弯/
切片后清洗设备
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1 此清洗装置主要由清洗主体 槽体 抽风系统 电控系统等部分
硅片切片后清洗设备
价格:电议
硅片切片后清洗设备品牌 华林科纳 CSE1 设备由五大部分组
石英舟清洗腐蚀设备
价格:电议
设备为浸泡使清洗机 用于石英舟/石英管/石英钟罩/石墨舟清洗
卧式石英舟清洗机
价格:电议
华林科纳—CSE 卧式石英舟清洗机 用于石英舟/石英管/石英
碎硅片清洗设备
价格:电议
华林科纳—CSE 碎硅片清洗设备 适用于2″~8″晶片清洗1
钟罩腐蚀设备
价格:电议
CSE 钟罩腐蚀设备适用于1″~8″石英管酸泡 本钟罩腐蚀设
化学腐蚀实验台
价格:电议
1.本化学腐蚀实验台为柜式 操作面带有倾斜式推拉透明PVC门
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晶圆清洗机 LSC-5000全自动兆声大基片湿法去胶系统
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晶圆清洗设备 LSC-4000兆声大基片湿法去胶清洗系统
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进口全自动清洗机 SWC-5000全自动兆声晶圆清洗机
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硅片清洗机 SWC-3000兆声辅助光刻胶剥离系统
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晶圆清洗设备 SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机
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清洗机
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